事業情報

ニッケル超微粉

IT/モバイル革命を支えるニッケル超微粉

情報ネットワーク化の進展とともに、IT(情報技術)革命を担う電子製品は急速に小型・軽量化が進んでいます。その最先端製品の高性能化・小型化を担っているのは、電極や配線材料をつくる新しい機能性材料です。当社は、1995年にニッケル超微粉を開発、主に積層セラミックコンデンサの内部電極材料として需要が急拡大しています。

セラミックコンデンサはダイオードと組み合わせ、交流を直流にしたり、信号に含まれる高周波ノイズを取り除いたりする重要な電子部品で、たとえば高機能スマートフォンには700~800個もの積層セラミックコンデンサが使用されています。

Ni超微粉(平均粒径0.2μm)

Ni超微粉(平均粒径0.2μm)

ニッケル99.9%以上の高純度のニッケル超微粉は、特に小型・軽量・薄型化が求められるスマートフォンやノートパソコン、自動運転/衝突防止システム他、電装化が進む自動車などに搭載する積層セラミックコンデンサに採用されています。

ニッケル超微粉 採用製品イメージ図

製法 CVD法(化学気相反応法)

当社は世界で初めてCVD法(Chemical Vapor Deposition-化学気相反応法)によるニッケル超微粉の工業的量産化に成功致しました。これは、原料の塩化ニッケルを加熱・気化し、水素と反応させてニッケル超微粉を生成するものです。

製法 CVD法(化学気相反応法)

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